열 수법에 의해 개발 된 HGTR (high anti-grey track) KTP 결정은 자속-성장 KTP의 일렉트로 크로머 현상을 극복하므로 높은 전기 저항률, 낮은 삽입 손실, 낮은 반파 전압, 높은 레이저 손상과 같은 많은 장점이 있습니다. 임계 값 및 넓은 전송 대역.

HGTR-KTP 결정으로 만들어진 KTP Pockels 셀은 주로 펄스 폭이 좁고 반복 주파수가 높은 펄스 레이저에 사용됩니다. 높은 반복 주파수에서 높은 흡광 률, 낮은 반파 전압 및 압전 링잉 효과가없는 KTP Pockels 셀은 레이저 범위, 레이저 라이더, 의료용 레이저 및 산업용 레이저 등에 널리 사용됩니다.

WISOPTIC은 KTP Pockels 셀의 기술 상담, 설계 서비스, 맞춤형 테스트 샘플 및 빠른 배송 표준 제품을 제공합니다.

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KTP Pockels 셀의 WISOPTIC 장점

• 넓은 광 대역폭 (0.5-3μm)

• 낮은 삽입 손실

• 낮은 반파 전압

• 낮은 작동 전압

• 높은 멸종 비율

• 매우 높은 레이저 손상 임계 값

• 압전 링잉 효과 없음

• 초고속 전압 드라이버를 사용하여 반복률이 높은 레이저에서 정밀한 스위칭

• 넓은 온도 범위에서 작동하기위한 열 보상 설계

• 설치 및 조정이 매우 쉬운 소형 디자인

• 환경 저항성이 높고 수명이 긴 고품질 KTP 크리스탈

KTP Pockels 셀의 WISOPTIC 기술 데이터

KTP 쌍 중 하나의 크기 (mm)	X 컷		Y 컷		전기 저항 (옴 · cm)
	HWV @ 1064nm (V)	멸종 비율 @ 633nm (dB)	HWV @ 1064nm (V)	멸종 비율 @ 633nm (dB)
3 × 3 × 10	1200	> 20	1000	> 20	> 1011
4 × 4 × 10	1600 년	> 20	1300	> 20	> 1011
5 × 5 × 10	2000 년	> 20	1600 년	> 20	> 1011
6 × 6 × 10	2300	> 20	1900	> 20	> 1011
7 × 7 × 10	2700	> 20	2200	> 20	> 1011
8 × 8 × 10	3100	> 20	2500	> 20	> 1011
9 × 9 × 10	3500	> 20	2800	> 20	> 1011
손상 임계 값 : > 600 MW / cm2 1064nm에서 10ns 펄스 용 (AR 코팅)